服務熱線：18916157635產品到哪里，服務到哪里 !
產品分類
products category
技術文章/ article
RIE-PE刻蝕機其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。RIE-PE刻蝕機是在濕法腐蝕技術基礎上發展起來的，屬于純化學性腐蝕。這種方法腐蝕均勻性好、損傷小，缺點是各向刻蝕同性，對于1μm以下的細線條線寬損失明顯。所以，在等離子刻蝕的基礎上改進反應結構和接電方式，出現了反應離子刻蝕。該方法加快了縱向的腐蝕速度，具有各向異性的腐蝕...
無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會造成鏡片磨損，在鏡片表面產生劃痕。與玻璃片相比，有機材料制成的硬性度比較低，更易產生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產生的劃痕，淺而細小，戴鏡者不容易察覺；另一種是由較大砂礫產生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區域則會影響視力。1、*代光學鍍膜系統技術抗磨損膜始于20世紀70年代初，當時認為玻璃鏡片不易磨制是因為其硬度高，而有機鏡片則太軟所以容易磨...
任何一種光學儀器的用途和使用條件必然會對它的光學系統提出一定的要求，因此，在我們進行光學設計之前一定要了解對光學鍍膜系統的要求。這些要求概括起來有以下幾個方面。一、光學系統的基本特性：數值孔徑或相對孔徑；線視場或視場角；系統的放大率或焦距。此外還有與這些基本特性有關的一些特性參數，如光瞳的大小和位置、后工作距離、共軛距等。二、系統的外形尺寸：光學鍍膜系統的外形尺寸，即系統的橫向尺寸和縱向尺寸。在設計多光組的復雜光學系統時，外形尺寸計算以及各光組之間光瞳的銜接都是很重要的。三、...
光學鍍膜系統是改變光學零件表面特征而鍍在光學零件表面上的一層或多層膜。可以是金屬膜、介質膜或這兩類膜的組合。光學薄膜是各種先進光電技術中*的一部分，它不僅能改善系統性能，而且是滿足設計目標的必要手段，光學薄膜的應用領域設及光學系統的各個方面，包括激光系統，光通信，光顯示，光儲存等，主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。下面就由小編具體為大家介紹分析光學鍍膜系統的基礎知識，以作為參考希望能夠幫助到大家。光學鍍膜系統的定義是：涉及光在傳播路徑過程...
進口雙模式刻蝕機全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統，帶8"ICP源。系統可以配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝壓力達到幾mTorr的水平。在低溫刻蝕的技術下，系統可以達到硅片的高深寬比刻蝕。進口雙模式刻蝕機主要特點：基于PC控制的緊湊型立柜式百級DRIE深硅刻蝕系統，擁有高縱橫比的刻蝕能力；配套LabView軟件，菜單驅動，自動記錄數據；觸摸屏監控；全自動系統，帶安全聯鎖；四級權限，帶密碼保護；自動上下載片；帶LoadLock預真空鎖；He...
全自動磁控濺射系統是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀70年代發展起來的全自動磁控濺射系統法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。全自動磁控濺射系統通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。全自動磁控濺射系統技術分類直流濺射法要求...
鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內，大多數金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。對...
干法刻蝕技術*，在芯片制造的過程中，硅片表面圖形的形成主要依靠光刻和刻蝕兩大模塊。光刻的目的是在硅片表面形成所需的光刻膠圖形，刻蝕則緊接其后地將光刻膠的圖形轉移到襯底或襯底上的薄膜層上。隨著特征尺寸要求越來越小，對光刻和刻蝕的要求也越來越高。通常一個刻蝕工藝包含以下特性：良好的刻蝕速率均勻性(Uniformity)，不僅僅是片內的均勻性(WithinWafer)，還包括片與片之間(WafertoWafer)，批次與批次之間(LottoLot)。高選擇比(HighSelecti...
您的位置：
在線咨詢
返回頂部